نظام تخليق الأغشية الرقيقة والمواد النانوية بالترسيب الكيميائي من البخار (CVD)

النظام منصة ترسيب كيميائي حراري من البخار (CVD) تتألف من أنبوب تفاعل من الكوارتز، وخط غاز عملية يُغذّى عبر متحكمات التدفق الكتلي (MFC)، ومضخة تفريغ، وضبط للضغط. تتحلل غازات السلائف، أو السلائف الصلبة والسائلة المبخَّرة، أو تتفاعل عند سطح الركيزة ضمن منطقة حرارة مضبوطة لتكوين أغشية رقيقة أو بنى نانوية. وتشمل العمليات المعتادة نمو الغرافين على رقائق النحاس أو النيكل تحت تدفق الأرجون والهيدروجين والهيدروكربونات، وتخليق الأنابيب النانوية الكربونية على ركائز مغطاة بمحفز، ونمو طبقات أحادية من ثنائيات كالكوجينيد المعادن الانتقالية مثل MoS₂ وWS₂، وطلاءات أكاسيد ونتريدات المعادن، والتلدين تحت جو مضبوط. وتتيح برمجة الحرارة متعددة الأجزاء، والتشغيل من الضغط الجوي حتى الضغط المنخفض، وخلائط الغاز القابلة للبرمجة، وضع وصفات نمو قابلة للتكرار. وتُوصَّف المواد المنتجة في المركز نفسه بقياسات رامان وSEM/EDS وXRD والمسبار رباعي النقاط، بما يربط معاملات التخليق بالبنية والخواص.