پوشش و فیلم نازک
دستگاه لایهنشانی چرخشی برنامهپذیر Laurell WS-650Mz-23NPPB (Spin Coater)
لایهنشانی یکنواخت لایه‌های نازک پلیمری، سلژل و نانومواد از محلول روی زیرلایههای تخت با ضخامت کنترل‌شده به روش چرخشی.
خلاصه
لایهنشانی یکنواخت لایه‌های نازک پلیمری، سلژل و نانومواد از محلول روی زیرلایههای تخت با ضخامت کنترل‌شده به روش چرخشی. Laurell WS-650Mz-23NPPB یک دستگاه لایهنشانی چرخشی در سطح آزمایشگاهی است که ویفرها و زیرلایههای مربعی تا قطر ۱۵۰ میلیمتر را روی چاک خلأ نگه می‌دارد و با پروفایلهای چندمرحلهای و برنامهپذیر سرعت و شتاب می‌چرخاند.
- اندازهٔ زیرلایه
- ویفر تا قطر ۱۵۰ میلیمتر؛ قطعات و زیرلایههای مربعی
- بیشینهٔ سرعت
- ۱۲٬۰۰۰ دور بر دقیقه
- تفکیک سرعت
- ۱ دور بر دقیقه
خدمات ارائه‌شده با این دستگاه
لایهنشانی نازک: CVD، پیرولیز پاششی و پوششدهی چرخشی
از €۷۱۰7 تا 15 روز کاریدرخواست این خدمتجزئیات خدمتآموزش اپراتور دستگاه
از €۴۲۰14 تا 30 روز کاریدرخواست این خدمتجزئیات خدمت
نمای کلی
Laurell WS-650Mz-23NPPB یک دستگاه لایهنشانی چرخشی در سطح آزمایشگاهی است که ویفرها و زیرلایههای مربعی تا قطر ۱۵۰ میلیمتر را روی چاک خلأ نگه می‌دارد و با پروفایلهای چندمرحلهای و برنامهپذیر سرعت و شتاب می‌چرخاند. با بهره‌گیری از توازن میان تبخیر حلال و نیروی گریز از مرکز، فتورزیستها، محلولهای پلیمری، پیشمادههای سلژل، جوهرهای پروسکایت و نقطهٔ کوانتومی، اکسید گرافن و پراکنههای نانوذرات به‌صورت لایه‌هایی با ضخامت تکرارپذیر از دهها نانومتر تا مرتبهٔ میکرومتر لایهنشانی می‌شوند. ورودی پاکسازی نیتروژن، اتمسفر کنترل‌شده‌ای برای فرمولاسیون‌های حساس به اکسیژن و رطوبت فراهم می‌کند و محفظهٔ مقاوم به مواد شیمیایی با طراحی آسان‌تمیز، آلودگی متقابل را کاهش می‌دهد. این سامانه در آماده‌سازی نمونه برای پژوهش‌های الکترونیک آلی، فتوولتائیک، حسگرها، غشاها و پوشش‌های کاربردی به کار می‌رود و مکمل روش‌های دیگر لایهٔ نازک مانند CVD و پیرولیز اسپری است.
اصل اندازه‌گیری
قابلیت‌ها
لایهنشانی چرخشی ویفرها و زیرلایههای مربعی تا ۱۵۰ میلیمتر
پروفایلهای چندمرحلهای برنامهپذیر سرعت و شتاب تا ۱۲٬۰۰۰ دور بر دقیقه
ضخامت لایهٔ تکرارپذیر از دهها نانومتر تا مرتبهٔ میکرومتر
پاکسازی با نیتروژن برای لایهنشانی محلولهای حساس به اکسیژن و رطوبت
فتورزیستها، پلیمرها، سلژلها، پروسکایتها و پراکنههای نانوذرات
پروتکلهای ریزش ایستا و پویا با ذخیرهٔ دستورالعمل
نمونههای مناسب
ویفرهای سیلیکونی و شیشهای
شیشههای رسانای با پوشش ITO/FTO
محلولهای پلیمری و فتورزیست
پیشمادههای سلژل و اکسید فلزی
جوهرهای پروسکایت، نقطهٔ کوانتومی و نانوذرات
فویلهای پلیمری انعطافپذیر
مشخصات فنی
| اندازهٔ زیرلایه | ویفر تا قطر ۱۵۰ میلیمتر؛ قطعات و زیرلایههای مربعی |
|---|---|
| بیشینهٔ سرعت | ۱۲٬۰۰۰ دور بر دقیقه |
| تفکیک سرعت | ۱ دور بر دقیقه |
| برنامه‌ریزی | دستورالعمل‌های چندمرحلهای با سرعت، شتاب و زمان مستقل |
| اتمسفر | ورودی پاکسازی نیتروژن |
| نگهداری زیرلایه | چاک خلأ با گزینه‌های چاک قابل تعویض |
خدمات ارائه‌شده با این دستگاه
لایهنشانی نازک: CVD، پیرولیز پاششی و پوششدهی چرخشی
از €۷۱۰7 تا 15 روز کاریدرخواست این خدمتجزئیات خدمتآموزش اپراتور دستگاه
از €۴۲۰14 تا 30 روز کاریدرخواست این خدمتجزئیات خدمت
- سازنده
- Laurell
- مدل
- WS-650Mz-23NPPB
- شمارهٔ کاتالوگ
- 30
پاسخ‌های سریع
لایه‌نشان چرخشی: نکات کلیدی
دستگاه لایهنشانی چرخشی برنامهپذیر Laurell WS-650Mz-23NPPB (Spin Coater) برای چه کاری استفاده میشود؟
کاربردها: لایهنشانی چرخشی ویفرها و زیرلایههای مربعی تا ۱۵۰ میلیمتر، پروفایلهای چندمرحلهای برنامهپذیر سرعت و شتاب تا ۱۲٬۰۰۰ دور بر دقیقه، ضخامت لایهٔ تکرارپذیر از دهها نانومتر تا مرتبهٔ میکرومتر، پاکسازی با نیتروژن برای لایهنشانی محلولهای حساس به اکسیژن و رطوبت، فتورزیستها، پلیمرها، سلژلها، پروسکایتها و پراکنههای نانوذرات، و پروتکلهای ریزش ایستا و پویا با ذخیرهٔ دستورالعمل.
با دستگاه لایهنشانی چرخشی برنامهپذیر Laurell WS-650Mz-23NPPB (Spin Coater) چه نمونههایی را میتوان آنالیز کرد؟
نمونههای مناسب: ویفرهای سیلیکونی و شیشهای، شیشههای رسانای با پوشش ITO/FTO، محلولهای پلیمری و فتورزیست، پیشمادههای سلژل و اکسید فلزی، جوهرهای پروسکایت، نقطهٔ کوانتومی و نانوذرات، و فویلهای پلیمری انعطافپذیر.
دستگاه لایهنشانی چرخشی برنامهپذیر Laurell WS-650Mz-23NPPB (Spin Coater) در کدام خدمات NAKTEM استفاده میشود؟
لایهنشانی نازک: CVD، پیرولیز پاششی و پوششدهی چرخشی و آموزش اپراتور دستگاه.
چه نتایجی دریافت میکنم؟
خروجیهای معمول: نمونههای لایهٔ نازک لایهنشانیشده روی زیرلایههای توافقشده (برچسبخورده، در بستهبندی محافظ)، سابقهٔ فرآیند شامل ترکیب پیشماده/گاز، دما، فشار، نرخ جریان، سرعت چرخش و مدت، نقشهٔ ناحیهٔ پوششدادهشده و ارزیابی یکنواختی ظاهری، مقاومت سطحی، ضخامت، تأیید فاز با XRD/رامان یا تصویربرداری SEM در صورت درخواست، و گزارش خلاصهٔ فرآیند (PDF).
خدمات مرتبط
آماده‌سازی و فرآوری نمونه
لایهنشانی نازک: CVD، پیرولیز پاششی و پوششدهی چرخشی
تولید لایه‌های نازک عملکردی، پوشش‌های اکسیدی و لایه‌های نانومواد به روش رسوب شیمیایی بخار، پیرولیز پاششی فراصوتی و پوششدهی چرخشی.
آموزش
آموزش اپراتور دستگاه
آموزش عملی اپراتور روی دستگاه‌های تحلیلی شامل SEM/EDS، XRD، رامان و رئومتری با پوشش آماده‌سازی نمونه، اندازه‌گیری و تفسیر داده‌ها.
دستگاه‌های مرتبط
الکتروشیمی و الکتریکی
سامانهٔ اندازه‌گیری مقاومت سطحی با پروب چهارنقطه‌ای Ossila P2010A2
اندازه‌گیری مقاومت سطحی، مقاومت ویژه و رسانندگی لایه‌های نازک، پوشش‌ها و ویفرهای نیمه‌رسانا مستقل از مقاومت تماسی.
سنتز و فرآوری
سامانهٔ سنتز لایهٔ نازک و نانومواد به روش رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)
سنتز گرافن، نانولوله‌های کربنی، دی‌کالکوژنیدهای فلزات واسطه و لایه‌های نازک اکسیدی با CVD کورهٔ لوله‌ای تحت جریان گاز و پروفایل دمایی کنترل‌شده.
پوشش و فیلم نازک
سامانهٔ لایهنشانی اسپری پایرولیز فراصوتی Siansonic
لایهنشانی یکنواخت فیلم‌های نازک اکسید فلزی، رسانا و عاملی روی زیرلایههای گرم‌شده با اتمیزه‌سازی فراصوتی محلولهای پیشماده.
پوشش و فیلم نازک
دستگاه لایهنشانی کندوپاش (اسپاترینگ) Quorum MiniQS
پوشش رسانای طلا، طلا-پالادیم یا پلاتین با ضخامت نانومتری روی نمونههای نارسانا پیش از تصویربرداری SEM و مطالعات فیلم نازک.
درخواست آنالیز با این دستگاه
نمونه و پرسش خود را با ما در میان بگذارید. پژوهشگران ما امکان‌سنجی را تأیید و یک برنامهٔ اندازه‌گیری پیشنهاد می‌کنند.