İçeriğe atla
Bir Nanografi Nano Teknoloji kuruluşuNanografi [email protected]
Giriş
Analiz talebi

Malzeme sentezi ve proses geliştirme

Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) İnce Film ve Nanomalzeme Sentez Sistemi

Grafen, karbon nanotüp, geçiş metali dikalkojenit ve oksit ince filmlerinin kontrollü gaz akışı ve sıcaklık profili altında tüp fırınlı CVD ile sentezi.

Kuvars tüplü ve gaz kontrol panelli tüp fırınlı CVD sistemi
Fotoğraf: Aksy88, Wikimedia Commons, CC BY-SA 4.0
Hizmette

Kısaca

Grafen, karbon nanotüp, geçiş metali dikalkojenit ve oksit ince filmlerinin kontrollü gaz akışı ve sıcaklık profili altında tüp fırınlı CVD ile sentezi. Sistem, kuvars reaksiyon tüpü, kütle akış kontrolörleri (MFC) ile beslenen proses gazı hattı, vakum pompası ve basınç kontrolünden oluşan ısıl kimyasal buhar biriktirme (CVD) platformudur.

Proses tipi
Isıl CVD, tüp fırın konfigürasyonu
Reaktör
Kuvars reaksiyon tüpü
Gaz kontrolü
Çok kanallı kütle akış kontrolörleri (Ar, H₂, hidrokarbon ve diğer proses gazları)

Bu cihazla sunulan hizmetler

Fiyatlar yol göstericidir, ek taleplerinize göre değişiklik gösterebilir. Ekibimiz sizinle iletişime geçerek kapsamı ve net fiyatı netleştirecektir.

Genel bakış

Sistem, kuvars reaksiyon tüpü, kütle akış kontrolörleri (MFC) ile beslenen proses gazı hattı, vakum pompası ve basınç kontrolünden oluşan ısıl kimyasal buhar biriktirme (CVD) platformudur. Öncül gazlar veya buharlaştırılan katı/sıvı öncüller, kontrollü sıcaklık bölgesinde substrat yüzeyinde ayrışarak ya da tepkimeye girerek ince film veya nanoyapı oluşturur. Argon, hidrojen ve hidrokarbon akışı ile bakır veya nikel folyo üzerinde grafen büyütme, katalizör kaplı substratlarda karbon nanotüp sentezi, MoS₂ ve WS₂ gibi geçiş metali dikalkojenitlerin tek tabaka büyütülmesi, metal oksit ve nitrür kaplamaları ile atmosfer kontrollü tavlama tipik proseslerdir. Çok segmentli sıcaklık programlama, atmosferik basınçtan düşük basınca kadar çalışma ve programlanabilir gaz karışımları, tekrarlanabilir büyütme reçeteleri oluşturulmasına olanak tanır. Üretilen malzemeler aynı merkezde Raman, SEM/EDS, XRD ve dört nokta prob ölçümleri ile karakterize edilerek sentez parametreleri ile yapı-özellik ilişkisi kurulur.

Ölçüm prensibi

Kabiliyetler

  • Bakır ve nikel folyo üzerinde tek/çok tabakalı grafen büyütme

  • Katalizör kaplı substratlarda karbon nanotüp sentezi

  • MoS₂, WS₂ gibi 2B geçiş metali dikalkojenit filmleri

  • Metal oksit ve nitrür ince film kaplamaları

  • Argon, hidrojen ve karışım gazlarda atmosfer kontrollü tavlama

  • MFC kontrollü, çok segmentli tekrarlanabilir büyütme reçeteleri

Uygun numuneler

  • Bakır, nikel ve metal folyo substratlar

  • Silisyum ve SiO₂/Si plakalar

  • Kuvars, safir ve cam substratlar

  • Katalizör kaplı taşıyıcılar

  • Toz ve lifli malzemeler (atmosfer kontrollü tavlama)

  • Metal oksit ve karbon öncülleri

Teknik özellikler

Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) İnce Film ve Nanomalzeme Sentez Sistemi — Teknik özellikler
Proses tipiIsıl CVD, tüp fırın konfigürasyonu
ReaktörKuvars reaksiyon tüpü
Gaz kontrolüÇok kanallı kütle akış kontrolörleri (Ar, H₂, hidrokarbon ve diğer proses gazları)
Basınç aralığıAtmosferik basınçtan düşük basınca (vakum pompası ile)
Sıcaklık programlamaÇok segmentli PID; grafen ve CNT büyütme sıcaklıklarını kapsar
Tipik ürünlerGrafen, CNT, TMD tek tabakaları, oksit/nitrür filmler

Bu cihazla sunulan hizmetler

Fiyatlar yol göstericidir, ek taleplerinize göre değişiklik gösterebilir. Ekibimiz sizinle iletişime geçerek kapsamı ve net fiyatı netleştirecektir.
Katalog no.
9

Hızlı yanıtlar

CVD: temel bilgiler

Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) İnce Film ve Nanomalzeme Sentez Sistemi ne için kullanılır?

Şunlar için kullanılır: Bakır ve nikel folyo üzerinde tek/çok tabakalı grafen büyütme, Katalizör kaplı substratlarda karbon nanotüp sentezi, MoS₂, WS₂ gibi 2B geçiş metali dikalkojenit filmleri, Metal oksit ve nitrür ince film kaplamaları, Argon, hidrojen ve karışım gazlarda atmosfer kontrollü tavlama ve MFC kontrollü, çok segmentli tekrarlanabilir büyütme reçeteleri.

Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) İnce Film ve Nanomalzeme Sentez Sistemi ile hangi numuneler analiz edilebilir?

Uygun numuneler: Bakır, nikel ve metal folyo substratlar, Silisyum ve SiO₂/Si plakalar, Kuvars, safir ve cam substratlar, Katalizör kaplı taşıyıcılar, Toz ve lifli malzemeler (atmosfer kontrollü tavlama) ve Metal oksit ve karbon öncülleri.

Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) İnce Film ve Nanomalzeme Sentez Sistemi hangi NAKTEM hizmetlerinde kullanılır?

İnce Film Kaplama: CVD, Sprey Piroliz ve Spin Kaplama ve Cihaz Operatör Eğitimi.

Sonuç olarak ne alırım?

Tipik çıktılar: Belirlenen alt tabakalar üzerine kaplanmış ince film numuneleri (etiketli ve korumalı ambalajda), Öncü/gaz bileşimi, sıcaklık, basınç, akış hızı, spin hızı ve süre bilgilerini içeren proses kaydı, Kaplama bölgesi haritası ve görsel homojenlik değerlendirmesi, Talep hâlinde tabaka direnci, kalınlık, XRD/Raman faz doğrulaması veya SEM görüntüleme ve Proses özeti raporu (PDF).

Bu cihazda analiz talep edin

Numunenizi ve sorunuzu anlatın. Bilim insanlarımız uygulanabilirliği teyit edip bir ölçüm planı önerir.

Analiz talebi oluştur